在EMCLC 2018中出现的网络光学

赛博光学公司将在欧洲掩模和光刻会议（EMLC）六月19-20日在法国格勒诺布尔举行的技术展期间主持海报展示。

会议汇集了来自世界各地的科学家、研究人员、工程师和技术人员，在掩模和晶片光刻技术的前沿提出创新。赛博光学公司的Allyn Jackson将讨论水准测量、振动和有效的方法来监测光罩扫描仪环境中的相对湿度（RH），以减少被称为“霾”的现象。

无论是诊断、资格或预防性维护，设备工程师都需要有效和有效地对工具进行测量和调整。在分划板环境中，这些测量方法通常是繁琐的，非代表性的，不实时的，可能危及生产环境，并可能导致昂贵的停机时间，“Allyn Jackson，SR现场应用工程师和美国和欧洲的销售经理在赛博光学公司。相比之下，最佳实践涉及收集和显示实时加速度、振动和湿度数据，以显著地加快设备设置和对准，同时减少光罩霾。

在案例研究中审查的解决方案将包括CytoOpice的ReTiCelSnices®自动多传感器，可以在整个光罩环境中传播，以无线捕获相对湿度（RH）测量。该装置还可以测量振动和调平-所有实时，以提高产量和工具正常运行时间。

关于WaveSnand和ReticleSense Line

包括自动调平系统（ALS和ALSR）、自振系统（AGS）、自动振动系统（AVS）、自动教学系统（ATS）、空气粒子传感器（APS 2, 3、APSR和APSRQ）和自动多传感器（AMS和AMSR）的WaveSnand和ReTiSelSee测量组合。可在不同的晶片形状和掩模形状的因素取决于设备。

关于赛博光学

赛博光学公司是全球领先的高精度传感技术解决方案开发商和制造商。赛博光学传感器正在用于通用计量和3D扫描，表面贴装技术（SMT）和半导体市场，以显著提高产量和生产率。通过利用其领先的技术，该公司已在战略上确立了自己作为全球领先的高精度3D传感器，使网络光学进一步提高其渗透的关键垂直市场。赛博光学总部设在明尼苏达明尼阿波利斯，通过其在北美洲、亚洲和欧洲的设施进行全球业务。

有关公司预期业绩的陈述是前瞻性的，因此涉及风险和不确定性，包括但不限于：全球SMT和半导体资本设备行业的市场状况；产品订货和发货的时间；我们的3D MRS启用了AOI系统；增加了价格竞争和价格压力对我们的产品销售，特别是我们的SMT系统；订单水平从我们的OEM客户；配件的需求，以满足客户订单；意外的产品开发挑战；效果我们在销售方面的世界性事件，其中大部分来自外国客户；电子市场中技术的快速变化；竞争对手的产品介绍和定价；我们的3D技术举措的成功；CigaGea360的成功；以及T中提出的其他因素。他向证券交易委员会提交了文件。