密歇根世博会暨科技论坛

ZeSTON将采用Hython SE 220，最新的pH中性清洗解决方案，在SMTA密歇根世博会和技术论坛。

自2010推出第一种pH中性脱盐剂以来，ZeSTON不断扩大其应用范围，通过一系列创新的环保产品。Vigon和Hyron产品线的添加已经显示出优异的pH中性清洁选择，不仅在SMT领域，而且半导体。

Hyron SE 220是一种pH中性，水基，单相清洗剂专门开发用于浸泡和超声波处理。Hyron SE 220从半导体电子器件中移除焊剂残留物，如引线框架、分立器件、功率模块、功率LED、倒装芯片和CMOS。

SMTA密歇根世博会和技术论坛将于5月22日在密歇根利沃尼亚的劳雷尔庄园举行。欲了解更多信息或注册请点击这里。

关于ZeSTON

ZESTRON总部位于Virginia马纳萨斯，在35多个国家和地区开展业务，是全球领先的电子产品和半导体制造行业的高精度清洁产品、服务和培训解决方案供应商。有八个世界技术中心和最大的工程师团队专注于高精度清洗，ZeSTON致力于确保其客户超过甚至最严格的清洁要求是不平等的。

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