工程材料系统首次亮相 DF 3050 干膜负性光刻

工程材料系统，Inc.，负面照片的全球领先供应商抵御 MEMS 和 IC 冷却应用材料，是高兴地介绍使用 DF-3050 干膜负性光刻在微电子机械系统 (MEMS) 和圆片级封装的应用程序 （TSV 密封）。此材料的配方优化的热辊压膜与加工 MEMS 和 IC 晶片。

DF-3050 是可用在其他厚度格式从 5 到 50 微米，精确度为 ± 5%。固化的化学能承受恶劣的环境，包括极端的水分条件和有腐蚀性的化学抗性。DF-3050 电影是更严厉 （少脆） 比最消极光致抗蚀剂的 158 ° C （由 DMA 谭三角洲） 的玻璃化转变温度与 3.5 中等模量市场上 GPa 在 25 ° c。它是疏水性质提供化学和防潮性。DF-3050 兼容，可以使用与自旋 coatable 光致抗蚀剂的 EMS 线接触。

DF-3050 是最新增加的工程材料系统全系列的电影和液体负光致抗蚀剂制定制作微流控通道的 MEMS 器件和集成电路。SMT贴片加工

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关于工程材料系统

工程材料系统公司 (EMS) 技术重点是电子材料的半导体、 电路组件、 光伏、 打印机头，相机模块、 磁盘驱动器和光电子产品装配线。本公司创建将引导其客户走向未来的持续改善。