在硅片溶液中的低频噪声测量 integratged

在硅片溶液中的低频噪声测量 integratged

Keysight 技术已宣布其高性能、 先进的低频噪声分析仪 (A-LFNA),其目的是要快速、 准确、 可重复的低频噪声测量的最新发行版。

释放功能的新用户界面以及与 Keysight 的 WaferPro 快车软件紧密结合 — — 执行自动化的晶圆级测量半导体器件的一个平台。作为这个大的框架的一部分,该平台提供工程师在他们的设备和电路,噪声更深层次理解与超越死胡同噪声测量独立系统上。

今天的半导体设备表征工程师经常想是灵活且可扩展的噪声测量系统。尤其是,他们需要一种晶圆级测量在一个单一的、 强大的平台,能够管理全晶圆级表征与集成先进的低频设备噪声测量和分析。Keysight 的 A LFNA 与 WaferPro 快车软件的无缝集成提供只是该功能。这一集成的解决方案方便了噪声测量组件、 个人设备和集成电路;包装和在晶圆级。就像之前,工程师使用 WaferPro 快递可以程序和序列高速直流、 电容和 RF S 参数测量,都在自动化晶圆探针控制。现在与噪声测量模块,他们可以添加噪声测量和分析的测试套件。

A LFNA 内置测量例程进行直流和噪声测量交钥匙。要测量噪声对 N 型 MOSFET,例如,系统将自动选择源,并将最佳的负载阻抗公开内在设备噪声。工程师可以接受这些建议的设置或更改,并发起了噪声测量。A LFNA 然后测量噪声功率谱密度 (1/f 噪声) 和时域 (RTN) 噪声。由此产生的数据是使用多图数据显示窗口绘制的。各种 windows 选项卡帮助促进普通任务比如评价装置直流工作点和测量功率谱密度曲线的斜率。噪声数据也可能进行了分析和代表在使用建模工具,如 Keysight 的模型生成器程序 (MBP) 和 IC 帽的设备的设备型号。电路设计师可以使用这些设备模型来确保高度精确的 RF 和低噪声电路设计。

“我们设备的表征和建模的客户多样化的测试需求,从甘可靠性和 CMOS 建模到磁传感器的测试中,”托德卡特勒,副总裁兼总经理 Keysight 设计和测试软件的说。”与我们新的软件用户界面为 A LFNA,我们给我们的客户测量和模型设备噪声穿过他们的晶片,同时仍提供他们全面和柔性测量选项从直流电容对 S 参数在微波频率下的独特能力。

Keysight 的 A LFNA 具有出色的噪声允许器件建模与电路表征工程师快速、 准确地描述设备在高电压 (到 200 V) 的灵敏度 (-183 dBV2/Hz) 和超低频率 (以 0.03 Hz)。这种能力使它在设备制造期间由半导体代工工艺设计工具包开发和统计过程控制的理想。运算放大器和线性稳压器的 IC 制造商还可以使用 A LFNA 来表征其数据表中的输出电压噪声规范。

相关新闻