欧洲研究中心订单蚀刻和从等离子体热沉积系统

主要的研究机构已订购两个先进的真空等离子处理系统，将提供蚀刻和沉积功能，用于纳米电子学的研究和发展。

由 imec，比利时为基础的全球纳米电子学 R & D 中心，订的是两个 Advanced Vacuum Apex SLR® 系统。其中一个将配置与电感耦合等离子体 (ICP) 源，与其他配置为高密度等离子体化学气相沉积 (HDPCVD)。Apex SLR® 系统纳入现场验证、 高密度等离子体源，由母公司的先进的真空，其广泛的 Shuttlelock® 线的等离子刻蚀机等离子热电。

Imec 是创新的国际知名的研究所的工作与全球合作伙伴许多类型的基于纳米电子学。Imec 总部设在比利时，并在荷兰、 台湾、 美国、 中国、 印度和日本设有办事处。

博士大卫骊山、 主任、 等离子热电技术营销指出，血浆热有着悠久的历史，支持研发机构，本命令继续这一传统。我们很高兴领先研发组织依靠等离子热电技术开发新工艺，创建更小，速度更快，效率更高的设备。

梨山博士说，”这是令人欣慰的是这些先端单反系统被选中 imec 的科学家，以帮助开发行业相关的技术解决方案，”。最近 imec 创新包括一次性光学生物传感器、 柔性电子、 高光谱成像设备和 3D 设备 （先进包装） 一体化进程。

先进的真空的 Apex SLR® 是高度灵活的、 小体积的等离子体处理系统。先端 SLR® ICP 是能够刻蚀的材料用在半导体器件和纳米技术，而先端 SLR® HDPCVD 使相对低温等离子体沉积高质量薄膜种类繁多。这些影片可以包括光学薄膜、 半导体器件的钝化层和其他材料在纳米电子制造和有限的处理热预算的其他应用程序中使用。