当模具满足半导体技术

由塞巴斯蒂安 BECHMANN，应用程序中，团长高科技钢板蜡纸

■ 图 1︰国家的物质和相转变。

不断增加所需的模具技术进展和挑战持续改进过程。最重要的是，这适用时进一步减少了光阑和/或孔之间的距离。这主要是在半导体技术中使用的模具。

在基督教科龙解决方案针对改善特别为不断更小的光圈或存款大小的转让行为。这里，我们内部设计的等离子涂层使用，它可以应用于屏幕、模具和刮刀。等离子涂层是古典等离子体增强化学气相沉积法、多年被用作半导体技术所建立的方法，是最先进。

但是，实际上，是一种等离子体吗？在物理和化学，血浆指物质的第四届基本状态。一种物质，最好是气体或气体混合物分解成其基本的组件。在分解、离子和自由电荷载体的生产。图 1 说明了物质的相变指定不同的基本状态。

■ 图 2︰差异在接触角;……右左。

等离子体增强化学气相沉积法是什么？在等离子体增强化学气相沉积工艺介质分解成基本成分。这些在表面上沉积，产生化学反应，形成新的化合物。

因此，等离子涂层允许模具的表面特性的重大调整。这将导致一种改进的接触角度或分别减少胶粘剂部队在模具上，光圈。

2 说明了通过我们专利的涂层的接触角的变化。

过程的好处是什么？复杂过程允许层强度的精确定义。这措施在所有区域涂只有几纳米。由于这层薄而均匀的沉积，孔径的大小不会任何差异在模具上的应用程序。血浆渗透生产甚至层的最小光圈。它也是重要的激光切割过程中没有额外免税额是必需。基督徒科龙模具切完全符合客户规格最高的质量。

■ 图 3︰转让行为与无等离子涂层的面积之比小于 0.66。

在过程中，沉积层的强度连续监控。为此，采购了特殊层厚度测量装置测量光谱反射率。测量装置计算出精确层厚度从几个位移/时间测量的思考。

我们建议接触角测量仪测量功能的沉积层，允许质量的接触角重现性好和客观检验。

等离子涂层模具的结果是大大改进的粘贴的转让。不过，我们建议应遵守模具中 ≥ 0.66 的面积比的极限值，以确保一个稳定的过程。否则，微小的变化可能会在过程链（质量控制回路和其影响的变量，根据 DIN EN ISO 9000 和以下）。图 3 所示转移行为，证明在实验室测试中的改进。