如何重复现货光学损伤微

在微电子、 设备组成的两个电极隔开绝缘屏障受到多重的光学-简称微丝-在同一地点。这些源于剩余激发原子和离子的材料，表面电荷沉积上的设备和本地温度集结的绝缘部分内。这些 reoccurences 可以导致销孔材料中的微电子设备让它们发生，并且由于当地减少在电场中的创造。现在，约瑟夫 Ráhel 和从在捷克共和国马萨里克大学的同事们已经阐明微放电复发的机制把它归咎于单一的微放电的温度增加。这些结果最近刊登在 EPJ D.

作者回顾性评价局部温度增加对微电子器件，再通过多个光学稳定的影响。有趣的是，温度的升高是几乎独立于内微放电发生的化学变化。因此，它可以提供资料的触发机制这种放电的基本最低。作者通过测量局部击穿电压，在正常大气压下评估在一系列的光学温度的影响。通过这样做，他们有效地排除残余的等离子体对微放电效应的可能影响。

他们发现单个微放电温度增加减少了在该装置内的电场。反过来，这导致优惠随后击穿前放电出现的位置。SMT加工

同时，他们开发了余热集结，以他们的实验结果为基础的数值模型。该模型用于更好地洞察了附近的保温墙体的作用。他们的研究结果建议考虑准稳定背景气体温度可以证明有用，当造型内这种设备在微放电的化学过程。