光刻胶市场价值41亿5000万美元2022
光刻胶市场价值30亿1000万美元，预计2016年底达到41亿5000万美元，年复合增长率为5.5%，从2017降至2022。
市场是由不同的应用领域的光致抗蚀剂的需求增加的带动下，如半导体&；集成电路、液晶显示器、印刷电路板，和其他应用程序，如MEMS，NEMS，和传感器。SMT贴片加工
据估计，半导体和集成电路是全球光刻胶市场的最大应用部分。
在应用中，半导体和集成电路部分预计将在预测期内领导全球光刻胶市场。光致抗蚀剂用于电子工业，特别是半导体和集成电路以及印刷电路板的设计。集成电路广泛应用于电子设备，包括智能手机、移动设备、个人电脑、笔记本电脑、平板电脑和先进的游戏设备。光致抗蚀剂是用来将电路图案转移到半导体衬底上的薄层，它沉积在半导体衬底上。可穿戴设备和消费电子产品需求的增加是光致抗蚀剂市场的主要增长动力。
根据类型，ARF浸泡预计将成为全球光刻胶市场增长最快的部分。
在大规模集成电路（LSI）中广泛应用了热浸技术。ArF光源的窄波长和折射率增加，由于浸没光刻胶的用户协助满足其小型化的改进产品性能需求。光致抗蚀剂对光致抗蚀剂的要求越来越高，其独特的性能，如波长窄，防止光的传播。
亚太地区占全球光刻胶市场2016的最大份额。目前，台湾是亚太地区最大的光致抗蚀剂市场，预计在预测期内将继续主导市场。在中国和日本，对光刻胶的需求预计将增加，由于越来越多的电子工业和经济的飞速发展。此外，这些国家的人口增长为光致抗蚀剂生产商提供了巨大的客户基础。
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