田中开始出货的SJeva，新开发的高质量的金沉积材料

田中控股有限公司宣布SJeva样品出货的开始，一个新开发的，高质量的金沉积材料，由田中贵金属工业株式会社田中贵金属工业进行产业内的田中贵金属。新的沉积材料具有比早期的产品纯度高，从而减少了贵金属的使用量，提高生产率和降低加工成本削减，提高回收和再循环。

通过改善制造方法，Tanaka Kikinzoku Kogyo成功地降低了非金属夹杂物[ 1 ]在沉积材料比传统材料的用量。Tanaka Kikinzoku Kogyo以前处理金沉积材料的纯度4N（99.99%金）到5（含金量为99.999%），和新的沉积材料，提高优质产品阵容。通过使用极低的非金属夹杂物的沉积材料，减少沉积材料熔化过程中表面收集的污染物，从而消除了清洗的需要。高纯度沉积材料也使得在形成薄膜之前缩短预热时间[ 2 ]，减少沉积材料的消耗，从而不利于成膜并降低成本。此外，新的沉积材料含有低水平的气体，因此，在形成薄膜时，可以从沉积源中减少溅射现象[ 3 ]，并且即使在高速沉积过程中也有可能减少这种形式的颗粒4。

由于新的沉积材料的上述性质和作用，这将有助于提高最终用户的生产力和低成本制造最终产品时使用沉积等材料在半导体领域的MEMS微布线以及光学器件、LED、医疗设备。

效益的新沉积的材料

-减少清洗过程
通常，各种形状的沉积材料包括颗粒、板、带、丝、和颗粒形状是根据应用的不同，熔融沉积过程中总是必要的。沉积材料中存在的非金属夹杂物在熔化过程中凝结并形成杂质，因此，清洗过程是必不可少的。然而，新的沉积材料含有极低水平的杂质，省去了清洗过程的需要，这一过程可望减少工艺的数量。

-降低成本通过更短的预热时间
前膜形成高纯度的沉积材料可以在膜的形成，减少预热时间，降低了沉积材料消耗，不利于膜的形成，可以降低成本。

膜的形成，减少在沉积源飞溅现象，在高速率沉积
喷溅现象减少基质颗粒的形成是在沉积过程中产生的缺陷问题，如粒子和基板和薄膜针孔发生的有代表性的一种。沉积速率越高，薄膜的生成效率越高，但沉积速率越大，溅射现象越有可能出现。原因是在沉积材料的气体，Tanaka Kikinzoku Kogyo成功地降低了气体的量通过改进制备工艺，并作为一个结果，飞溅现象的控制效果是可以预期的。

关于田中贵金属

自成立以来1885，田中贵金属集团已经建立了一个多元化的商业活动集中于贵金属。Tanaka是日本的领导者，就贵金属的数量而言。多年来，田中贵金属不但生产和销售贵金属产品，而且还提供珠宝和资源等贵重金属。作为贵金属专家，日本内外的所有集团公司都在生产、销售和技术方面进行统一的合作，以提供产品和服务。此外，为了使全球化的进一步发展，Tanaka Kikinzoku Kogyo欢迎美泰乐科技公司作为群体中的一员2016。