台积电采取极端紫外线在 5nm

该公司表示，它一直使用 7nm 作为 EUV，实现所谓的良好集成的极紫外扫描仪、 面具和光致抗蚀剂的开发工具。台积电表示运行为基础设施发展的四个国家—艺术 EUV 扫描仪，并将在另一个两个 NXE:3400 EUV 生产工具从 ASML 在 2017 年第一季度。

台积电表示，它已推行 125 瓦 EUV 源在其 ASML NXE:3350 装备，以提高生产效率。同时，公司还开发了内部的 EUV 面具、 材料、 检查和维修技术，整合其 EUV 光刻。

台积电公司首席执行官马克刘赌 EUV。(来源︰ EE 倍，由艾伦 · 帕特森照片)

到目前为止，EUV 的商业可行性已经受到质疑。如三星台积电竞争者的出现更加坚信 EUV 的商业可行性。韩国报章报道说，三星计划在 7nm 使用 EUV。

先进的节点
在还没有达到商业化生产的其他节点，台积电提供进度更新。

台积电表示，它将会在 2017 年，第一季度期间看到 10nm 从其第一笔收入和预计到斜坡陡峭地在明年整个 10nm。

在 7nm 节点，台积电表示其增产 256 兆字节 SRAM 测试设备上的是比原计划提前。

提高资本支出
台积电表示，将提高其资本开支的目标 2016 年早些时候距离的 $ 90 亿-$ 100 亿把一系列新的 $ 95 亿到 $ 105 亿因为 2017年移动收入的期望有改善。

该公司预计今年以下三星半导体行业有的第二大的资本支出。
虽然分析师都说今年可能走向不景气半导体产业的总体，台积电维持更乐观的前景预期。

计数 iPhone 制造商苹果作为其最大的买家，该公司表示，预计在第三季度受益于新产品的业务主要的移动设备客户发射以及继续库存补货的客户。

— — 艾伦 · 帕特森 EE 次涵盖半导体行业。他以台湾为基地。