ASML 购买爱马仕为 $3.1B

圣何塞，加利福尼亚州 — — 阿斯麦控股 NV 将花费 $ 31 亿购买爱马仕 Microvision 公司为其电子束检验工具，ASML 的极紫外投影光刻系统，它现在说生态系统支撑可以”用于半导体在 2018 年开始批量生产”。

ASML 说爱马仕电子束工具会传送模式信息 ASML 可以用来优化其设计和过程模型的方式，帮助光学和电子束系统更好地刻画上芯片的功能。此外，爱马仕的提供识别 EUV 模式缺陷对于面具生产商来说，一块越来越关键的 EUV 益智的电子束检测系统。

当竞争对手设备制造商科军坦”掉其 EUV 面具检验程序，ASML 失去了一块巨大的、 关键的急需的基础设施，使其 EUV 工具可行，”说罗伯特 · 梅尔的电子邮件时事通讯市场观察家半导体顾问有限责任公司。

“ASML 基本上没有选择，只能购买唯一的重大的、 可行的、 替代 EUV 面具检验/计量工具公司保持基础设施和加快它，”梅尔说。”[EUV] 源泉和动力问题得到解决，该行业终于睡醒了，事实不是足够 EUV 基础设施和这次收购为了保证和促进这方面的缺陷后，”他补充道。

这笔交易是一个非常昂贵，给出了基于台湾的高科技公司如爱马仕的较高的估值。然而，爱马仕股票是下来从其峰值的一半一年以前，使这笔交易”比较便宜”，Maire 说。港泉SMT

“虽然采集是昂贵，这就是强大的战略举措，以支撑 EUV 基础设施的支持，”他补充说，注意到它可能会面临监管障碍鉴于在芯片的光刻 ASML 的”接近垄断”地位。

高度复杂的 EUV 系统面临一再的延误，迫使芯片制造商使用多种模式技术与现有的光刻系统。移动芯片制造商增加成本和复杂性但已沉积的制造商的福音并且刻蚀系统科和其他人等。

共识在 EUV 将最终看到 Imec 技术论坛上个月在 2020 年之前使用。它预计将用来减少一些关键芯片在节点下面 10nm 图层上的多模式的需要。

芯片制造商将继续使用现有浸泡分档器和多模式技术以提高吞吐量的晶片。超出 EUV，芯片制造商开始探索原子后沉积技术。

爱马仕的埃美电子探头检测系统可以帮助发现缺陷的 EUV 面具制造商。(图像 ︰ 赫耳墨斯)

爱马仕对付 ASML 说它的目标是”打开一个新的市场，目前还不存在，”根据一份新闻稿，对这笔交易。具体来说，它旨在使用爱马仕电子束技术”自动化 [EUV] 扫描仪性能增加输出”。

爱马仕技术可以扩大范围，ASML 的现有的控制回路，它补充说，描述一个协同的过程。

ASML’s computational models will guide HMI’s e-beam metrology systems to critical features on the chip in order to achieve significantly more complete and more accurate critical pattern identification. We also intend to use high resolution e-beam images from HMI’s metrology systems to improve ASML’s computational lithography models. ASML plans to use these improved models to improve our scanner control, leading to improved yield.

这笔交易一致通过这两家公司的董事会，预计将在 2016 年第四季度完成。ASML 计划与购置 15 亿欧元的债务，和阿斯麦公司股权，从可用现金 5 亿欧元融资。

— — 里克 · 梅里特，硅谷分社社长